ASML en imec gaan in Veldhoven samen een High NA EUV Lithography Lab openen. Zo kunnen chipfabrikanten en leveranciers van materialen en apparatuur alvast toegang krijgen tot het eerste prototype van een High NA EUV-scanner en daarmee samenhangende verwerkings- en meetinstrumenten. Beide bedrijven verwachten dat door deze zeer vroege betrokkenheid onder meer de introductie in de productie soepeler zal verlopen.
De opening van het gezamenlijke ASML-imec High NA EUV Lab is volgens beide partijen een mijlpaal in de voorbereiding van High NA EUV voor massaproductie (naar verwachting in de periode 2025-2026).
Het Vlaamse imec is wereldwijd onderzoeks- en innovatiehub in nano-elektronica en digitale technologieën. ASML is een toonaangevende lithografieleverancier voor de halfgeleiderindustrie.
Na een bouw- en integratieperiode van jaren is het lab klaar om toonaangevende fabrikanten van logica- en geheugenchips, alsmede leveranciers van geavanceerde materialen en apparatuur toegang te geven tot het platform, stellen de twee in een gezamenlijk persbericht.
De betrokkenen krijgen toegang tot het eerste prototype van een High NA EUV-scanner (Twinscan EXE:5000) en de omliggende verwerkings- en meetinstrumenten (waaronder een coat- en developmenttrack, metrologietools en wafer- en maskersystemen).
Voordelen voor chipmakers
Door toonaangevende chipmakers toe te laten tot het prototype en de omliggende tools, ondersteunen imec en ASML hen bij het afbouwen van de risico’s van de technologie.
Ook ondersteunt het de makers bij het ontwikkelen van private High NA EUV-gebruikscases nog vóór de scanners operationeel zullen zijn in hun productiefabrieken.
Zij krijgen bovendien toegang tot het bredere ecosysteem van materiaal- en apparatuurleveranciers en tot imec’s High NA patterning programma.
Voorbereidingen al in 2018 gestart
Het gereedmaken van de 0,55 NA EUV-scanner en infrastructuur volgde op intensieve voorbereidingen die in 2018 begonnen.
In deze periode waren ASML en Zeiss in staat om High NA EUV-scannerspecifieke oplossingen te ontwikkelen met betrekking tot de bron, optiek, lensanamorfie, stitching, gereduceerde focusdiepte, fouten bij randplaatsing en overlaynauwkeurigheid.
Ondertussen heeft imec, in nauwe samenwerking met zijn uitgebreide leveranciersnetwerk, het patterning ecosysteem voorbereid.
Dit inclusief de ontwikkeling van geavanceerde resistente en onderlaagmaterialen, fotomaskers, metrologie- en inspectietechnieken, (anamorfe) beeldvormingsstrategieën, optische nabijheidscorrectie (OPC) en geïntegreerde patterning- en etstechnieken.
Eerste belichtingen 10 nm dichte lijnen
Het voorbereidende werk heeft onlangs tot de eerste belichtingen geleid. Die laten voor het eerst 10 nm dichte lijnen (20 nm pitch) zien die in Veldhoven met behulp van de 0,55 NA EUV prototype scanner zijn geprint op metaaloxideharsen (MOR’s).
“High NA EUV is de volgende mijlpaal in optische lithografie. Het belooft patterning van metaallijnen/ruimten met 20 nm pitch in één enkele belichting en maakt de volgende generaties DRAM-chips mogelijk”, zegt Luc Van den hove, president en CEO van imec.
“Dit zal de opbrengst verbeteren alsmede de cyclustijd en zelfs de CO2-uitstoot verminderen in vergelijking tot bestaande multi-patterning 0,33 NA EUV-systemen.”
“We zijn nu enthousiast om deze mogelijkheden in het echt te verkennen, met behulp van de prototype High NA EUV scanner”, vervolgt Van den hove.
Lab als virtueel verlengstuk
Voor imec en zijn partners zal het High NA EUV Lithography Lab fungeren als een virtueel verlengstuk van de imec 300 mm cleanroom die imec in Leuven heeft.
“Hierdoor kunnen we het patterning ecosysteem verder verbeteren en de resolutie van de High NA EUV naar zijn ultieme limieten duwen.”
ASML: ‘Vroegtijdige betrokkenheid’
“Het ASML-imec High NA EUV Lithography Lab biedt onze EUV-klanten, partners en leveranciers de mogelijkheid om toegang te krijgen tot het High NA EUV-systeem voor procesontwikkeling terwijl ze wachten tot hun eigen systeem beschikbaar is in hun fabrieken”, zegt Christophe Fouquet, president en CEO van ASML.
“Dit soort zeer vroegtijdige betrokkenheid bij het ecosysteem is uniek en kan de leercurve van de technologie aanzienlijk versnellen en de introductie in de productie soepeler laten verlopen.”
“We zijn vastbesloten om met onze klanten samen te werken en hen te ondersteunen in deze reis met High NA EUV”, besluit hij.
