Met de aanschaf van twee Scanning Elektronen Microscopen (SEM) beschikt de afdeling Materials, Testing & Analyses van het onderzoeksinstituut ECN-E&EE over de meest moderne apparatuur voor materiaal-kundig onderzoek. Het betreft een FEG-SEM (Hitachi SU70) en de variabele druk SEM (Hitachi S3700).
Beide SEM’s hebben hun eigen toepassingsmogelijkheden. De FEG-SEM met Schottky emitter voor hoge resoluties, met element analyses middels Energie Dispersieve Spectraalanalyse (EDS), met Golflengte Dispersieve Spectraalanalyse (WDS) en met Electron Back Scattering Diffraction (EBSD) is de FEG-SEM tevens geschikt voor kristallografisch onderzoek. Met deze FEG-SEM zijn, afhankelijk van het te onderzoeken materiaal, hoge resoluties tot sub-nanometer schaal mogelijk. Ook elektrisch slecht geleidende materialen, zoals aluminium oxide, zijn zonder monstervoorbereiding te onderzoeken.
De FEG-SEM (Hitachi SU70) (foto’s: ECN-E&EE)
Variabele druk
De variabele druk SEM welke onder een variabele druk kan werken tot 270 Pa (ca 0,1 bar) heeft een grote kamer waarin samples tot een gewicht van 6 kg en afmetingen tot 200 mm in diameter en een hoogte van maximaal 150 mm geplaatst kunnen worden. Deze microscoop is uitgerust met een EDS element analyse systeem. In deze SEM is het mogelijk om verontreinigende monsters te onderzoeken en net als met de FEG-SEM kunnen niet geleidende materialen zoals aluminiumoxide en glasvezelversterkte monsters worden onderzocht.
Ion Milling
Voor optimale benutting van de SEM’s is een voorbereidingsapparatuur genaamd Ion Milling aangeschaft. Hiermee worden dunne en kwetsbare lagen geprepareerd. Daarbij moet men denken aan bijvoorbeeld polymeerlagen met een dikte van rond de 10 nm en dunner, zoals toegepast in polymeren zonnecellen (dunne film zonnecellen) en dunne lagen op bijvoorbeeld membranen of anodiseerlagen op aluminium.
Foto links: dunne polymeren lagen. Foto midden: glasvezelversterkt PA. Foto rechts: Geanodiseerd aluminium-conversie laag. (foto’s: ECN-E&EE)